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            mos管場效應(yīng)管的工作原理及結(jié)構(gòu)_場效應(yīng)管和mos管的工作原理

            訪客 2023-05-05 11:35:09 芯片常識 109 ℃ 3 評論

            mos管的工作原理

            目前主板或顯卡上使用mos管場效應(yīng)管的工作原理及結(jié)構(gòu)的MOS管并不太多mos管場效應(yīng)管的工作原理及結(jié)構(gòu),一般有10個左右。主要原因是大部分MOS管集成在IC芯片中 。因為MOS管主要為配件提供穩(wěn)定mos管場效應(yīng)管的工作原理及結(jié)構(gòu)的電壓 ,所以一般用在CPU、AGP插槽 、內(nèi)存插槽附近。仔清其中,CPU和AGP插槽附近布置mos管場效應(yīng)管的工作原理及結(jié)構(gòu)了一組MOS管,而內(nèi)存插槽共用一組MOS管。一般來說 ,MOS管兩個一組出現(xiàn)在主板上 。工作原理雙極晶體管將輸入端的小電流變化放大 ,然后在輸出端輸出大的電流變化 。雙極晶體管的增益定義為輸出電流與輸入電流之比(β)。另一種晶體管叫FET,把輸入電壓的變化轉(zhuǎn)化為輸出電流的變化。它們是電流控制裝置和電壓控制裝置 。FET的增益等于其跨導(dǎo))gm,跨導(dǎo)定義為輸出電流的變化與輸入電壓的變化之比。FET的名字也來源于它的輸入柵極(稱為gate) ,它通過在絕緣層(氧化物SIO2)上投射電場來影響流經(jīng)晶體管的電流。實際上沒有電念褲前流流過這個絕緣體(只是電容的作用),所以FET的柵極電流很小(電容的電流損耗) 。最常見的FET在柵電極純戚下使用一薄層二氧化硅作為絕緣體。這種晶體管被稱為金屬氧化物半導(dǎo)體(MOS)晶體管,或金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管(MOSFET)。

            mos管場效應(yīng)管的工作原理及結(jié)構(gòu)_場效應(yīng)管和mos管的工作原理,第1張

            場效應(yīng)管的工作原理和基本結(jié)構(gòu)是什么?

            場效應(yīng)管(FETmos管場效應(yīng)管的工作原理及結(jié)構(gòu) ,F(xiàn)ield Effect Transistor)電壓產(chǎn)生mos管場效應(yīng)管的工作原理及結(jié)構(gòu)的電場來控制管子工作的 。現(xiàn)在最常用的是MOSFET(M是金屬mos管場效應(yīng)管的工作原理及結(jié)構(gòu),O是氧化物,S是半導(dǎo)體) ,三者恰好形成一個電容,中間的氧化物作為電容的電介質(zhì)。

            電子往電勢高的地方(正極)流動聚集,空穴向電勢低的地方(負極)流動聚集。

            以N管為例mos管場效應(yīng)管的工作原理及結(jié)構(gòu)

            (1)在不加電仔笑源的情況下 ,源極和漏極都充滿mos管場效應(yīng)管的工作原理及結(jié)構(gòu)了電子,是N型半導(dǎo)體,而它們之間的襯底卻是P型半導(dǎo)體 ,相當(dāng)于兩個反串的PN結(jié) ,電阻很大 。也可以理解為兩個導(dǎo)體被中間的襯底隔離開了。此時無法導(dǎo)電。

            (2)在柵極上加上一個正電壓之后,這個電壓在柵極和襯底之間形成了一個柵極指向襯底的電場,這個電場吸引電子 ,使電子在柵氧化層下方聚集,同時將空穴排斥開 。隨著柵壓的升高,電子的濃度越來越大 ,空穴濃度越來越小 。本來柵氧化層邊緣的襯底為P型半導(dǎo)體,空穴濃度大于電子濃度,但是當(dāng)柵極電壓加到一定程度(Vth)時 ,電子的濃度開始超過空穴濃度,此時P型襯底變?yōu)镹型襯底,也就是變成“溝道 ”將源極和漏極連起來了 ,此時就可以導(dǎo)電了。

            (3)柵極的電壓必須比源極或漏極高一個Vth,對應(yīng)端的溝道才能導(dǎo)通,不然就會夾斷。導(dǎo)通部分電阻很小 ,夾斷部分電阻非常大(即空間電荷區(qū)) 。

            (4)溝道兩端同時談晌夾斷 ,就工作在截止區(qū);只有一端夾斷,就工作在飽和區(qū);沒有夾斷,就工作在線性區(qū)。截止區(qū)就相當(dāng)于斷開不工作 ,飽和區(qū)相當(dāng)于一個電流源,線性區(qū)相當(dāng)于一個電阻。

            總之,場效應(yīng)管就是靠這個“溝道”來工作的 ,沒有“溝念侍含道”就休眠了 。

            mos管是什么原理,起什么作用的

            MOS管的原理:

            它是利用VAH 來控制“扮凳感應(yīng)電荷 ”的多少 ,以改變由這些“感應(yīng)電荷 ”形成的導(dǎo)電溝道的狀況,然后達到控制漏極電流的目的。在制造管子時,通過工藝使絕緣層中出現(xiàn)大量正離子 ,故在交界面的另一側(cè)能感應(yīng)出較多的負電荷,這些負電荷把高滲雜質(zhì)的N區(qū)接通,形成了導(dǎo)電溝道 ,即使在VAH =0時也有較大的漏極電流ID。當(dāng)柵極電壓改變時 ,溝道內(nèi)被感應(yīng)的電荷量也改變,導(dǎo)電溝道的寬窄也隨之而變,因而漏極電流ID隨著柵極電壓的變化而變化 。

            作用:

            1、可應(yīng)用于放大電路。由于MOS管放大器的輸入阻抗很高 ,因此耦合電容可以容量較小,不必使用電解電容器。

            2、很高的輸入阻抗非常適合作阻抗變換 。常用于多級放大器的輸入級作阻抗變換。

            3 、可以用作可變電阻。

            4 、可以方便地用作恒流源 。

            5、可以用作電子開關(guān) 。

            簡介:

            mos管,即在集成電路中絕緣性場效應(yīng)管。是金屬(metal)—氧化物(oxid)—半導(dǎo)體(semiconductor)場效應(yīng)晶體管?;蛘叻Q是金屬—絕緣體(insulator)—半導(dǎo)體 。MOS管的source和drain是可以對調(diào)的 ,都是在P型backgate中形成的N型區(qū)。在多數(shù)情況下,這個兩個區(qū)是一樣的,即使兩端對調(diào)也不會影響器件的性能。這樣的器件被認為是對稱的 。

            結(jié)譽滑構(gòu)特點:

            MOS管的內(nèi)部結(jié)構(gòu)如下圖所示;其導(dǎo)通時只有一種極性的載流子(多慶缺臘子)參與導(dǎo)電 ,是單極型晶體管。導(dǎo)電機理與小功率MOS管相同,但結(jié)構(gòu)上有較大區(qū)別,小功率MOS管是橫向?qū)щ娖骷? ,功率MOSFET大都采用垂直導(dǎo)電結(jié)構(gòu),又稱為VMOSFET,大大提高了MOSFET器件的耐壓和耐電流能力。

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            n溝道m(xù)os管? ? ? ? ? ? ? ? ?

            p溝道m(xù)os管

            其主要特點是在金屬柵極與溝道之間有一層二氧化硅絕緣層 ,因此具有很高的輸入電阻 ,該管導(dǎo)通時在兩個高濃度n擴散區(qū)間形成n型導(dǎo)電溝道 。n溝道增強型MOS管必須在柵極上施加正向偏壓,且只有柵源電壓大于閾值電壓時才有導(dǎo)電溝道產(chǎn)生的n溝道MOS管。n溝道耗盡型MOS管是指在不加?xùn)艍?柵源電壓為零)時,就有導(dǎo)電溝道產(chǎn)生的n溝道MOS管。

            mos晶體管結(jié)構(gòu)及工作原理

            1. MOS管工作原理--MOS管簡介

            MOS管 ,即在集成電路中絕緣性場效應(yīng)管 。MOS英文全稱為Metal-Oxide-Semiconductor即金屬-氧化物-半導(dǎo)體,確切的說,這個名字描述了集成電路中MOS管的結(jié)構(gòu) ,即:在一定結(jié)構(gòu)的半導(dǎo)體器件上,加上二氧化硅和金屬,形成柵極。MOS管的source和drain是可以對調(diào)的 ,都是在P型backgate中形成的N型區(qū)。在多數(shù)情況下,兩個區(qū)是一樣的,即使兩端對調(diào)也不會影響器件的性能,這樣的器件被認為是對稱的 。

            2. MOS管工作原理--Mos管的結(jié)構(gòu)特點

            MOS管的內(nèi)部結(jié)構(gòu)如旅則下圖所示;其導(dǎo)通時只有一種極性的載流子(多子)參與導(dǎo)電 ,是單極型晶體管 。導(dǎo)電機理與小功率MOS管相同,但結(jié)構(gòu)上有較大區(qū)別,小功率MOS管是橫向?qū)щ娖骷? ,功率MOSFET大都采用垂直導(dǎo)電結(jié)構(gòu) ,又稱為VMOSFET,大大提高了MOSFET器件的耐壓和耐電流能力。

             其主要特點是在金屬柵極與溝道之間有一層二氧化硅絕緣層,因此具有很高的輸入電阻 ,該管導(dǎo)通時在兩個高濃度n擴散區(qū)間形成n型導(dǎo)電溝道。n溝道增強型MOS管必須在柵轎枯極上施加正向偏壓,且只有柵源電壓大于閾值電壓時才有導(dǎo)電溝道產(chǎn)生的n溝道MOS管 。n溝道耗盡型MOS管是指在不加?xùn)艍?柵源電壓為零)時,就有導(dǎo)電溝道產(chǎn)生的n溝道MOS管。

            3. MOS管工作原理

            MOS管的工作原理(以N溝道增強型MOS場效應(yīng)管)它是利用VAH 來控制“感應(yīng)電荷”的多少 ,以改變由這些“感應(yīng)電荷”形成的導(dǎo)電溝道的狀況,然后達到控制漏極電流的目的。在制造管子時,通過工藝使絕緣層中出現(xiàn)大量正離子 ,故在交界面的另一側(cè)能感應(yīng)出較多的負電荷,這些負電荷把高滲雜質(zhì)的N區(qū)接通,形成了導(dǎo)電溝道 ,即使在VAH =0時也有較大的漏極電流ID 。當(dāng)柵極電壓改變時,溝道內(nèi)被感應(yīng)的電荷量也改變,導(dǎo)電溝道的寬窄也隨之而變 ,因而漏極電流閉鎮(zhèn)洞ID隨著柵極電壓的變化而變化。

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